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RLK900高分辨率XAFS/X
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產品價格: 面議
經營模式: 生產/制造
企業性質: 有限責任公司
企業法人: 曾祥忠
成立時間: 2001
發布日期: 2021年4月29日
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西安中川光電科技有限公司
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詳細說明

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,是目前國際最先進的新型XAFS/XES光譜儀。RLK900居于新原理和新結構;采用獨有的、專利的SBCA晶體,實現X射線的單色掃描;采用小功率的X-Ray源,使研究試驗室內就能夠方便運行。
RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,可以完成XAS(X-ray Absorbtion SpectroScopy)和XES(X-ray Emmision Spectroscopy)兩種光譜的研究,能夠獲得掃描范圍5keV-12keV,分辨率優于1eV的譜線。
RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,將信號探測、掃描控制、數據顯示高度集成化,使用前只需簡單的參數設置、校準確認,即可方便進行研究試驗。
RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,作為一種目前國際最新型的儀器,為各種材料研究分析拓展手段,用戶能夠在實驗室就能隨時開展研究,而不再受到條件限制。可廣泛應用于各種材料研究分析領域,包括納米材料、半導體材料、催化材料、生物材料、軍用特種材料、礦產分析等。將成為材料研究必選設備。
v 產品特點(Features)
Ø 新原理新構造:居于新原理和新構造的X-ray光譜儀;
Ø 高分辨率:    采用獨有的、專利的SBCA晶體作為核心器件,實現X射線單色掃描,分辨率達到1eV;
Ø 高品質能譜曲線:與同步輻射相當品質的能譜曲線;
Ø 試驗室儀器:  在試驗室就可完成XAFS/XES的研究,不再受到條件限制;
Ø 高集成性:    儀器集成探測、控制、分析,軟件運行于Windows操作系統;
Ø 應用面廣:    納米材料、半導體材料、催化材料、生物材料、軍用特種材料、礦產分析等各種材料研
究分析領域
v 技術指標(Specification)
型號Model
RLK900 高分辨率XAFS/XES光譜儀
原理Principle
SBCA晶體、Roland圓、X-ray單色掃描
能量范圍
Energy Range
5KeV-12KeV
能量分辨率
Energy Resolution
0.5-1.5eV
工作模式
Working Mode
XAS/XES
布拉格角范圍
Bragg Angle Range
65°-85°
X射線源
X-ray Tube
10W(Max)50KV@200uA(X 光點直徑~0.5mm)
光學系統
Optics System
SBCA單色分光、Roland圓Bragg掃描(Roland 直徑500mm)
探測器Detector
半導體電制冷SDD
通訊接口
Communication  interface
RS-232
工作電壓
Power Supply
220VAC
工作溫度
Temperature
-10℃  ~ +50℃
外形尺寸Dimension
1200(L)*1200(W)*1100(H)
重量Weight
350Kg
軟件Software
RLK900專用軟件(WindowsXP/Windows 7)


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